真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)在市場(chǎng)廣泛用于高端產(chǎn)品如手機(jī)，鐘表等。

真空鍍膜設(shè)備的冷卻主要分為兩部分，1、靶材冷卻。2、腔體冷卻

靶材冷卻：在鍍膜過程中靶材的頻率高，電流大，電流在流動(dòng)過程中會(huì)產(chǎn)生集膚效應(yīng)，電流會(huì)集中在有點(diǎn)導(dǎo)體的面，導(dǎo)致電導(dǎo)體發(fā)熱，為了保證鍍膜機(jī)的長時(shí)間連續(xù)性工作所以需要在導(dǎo)體內(nèi)部通冷卻水，給其降溫。

腔體冷卻：鍍膜腔體內(nèi)的溫度通?？梢愿哌_(dá)800-1200攝氏度，長時(shí)間工作會(huì)導(dǎo)致腔體高溫，故需要在腔體表面做夾層通冷卻水來進(jìn)行降溫。

在真空鍍膜機(jī)冷水機(jī)選型過程需要注意：

1、鍍膜機(jī)的功率。

2、冷卻水流量。

3、鍍膜機(jī)的腔體直徑。